- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 |
(非自耗式)微型金屬熔煉爐 |
||
產(chǎn)品型號 |
CY-DHLΦ200-SS-Φ4-D |
||
安裝條件 |
安裝溫度 |
溫度25℃±15℃ |
|
安裝濕度 |
濕度55%Rh±10%Rh下使用 |
||
水 |
設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) |
||
電 |
AC380V 50Hz(63A空氣開關(guān)),必須有良好接地 |
||
氣 |
設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭) |
||
工作臺 |
(落地式)尺寸900mm×600mm×700mm,承重200kg以上 |
||
通風裝置 |
需要 |
||
主要特點 |
1、設(shè)有?120mm的爐門,方便取放樣品。 2、設(shè)有前后觀察視窗,方便觀測起弧熔化狀態(tài)。 3、真空室、銅坩堝、起弧電極都采用水冷冷卻方式。 4、上下移動采用方向盤式設(shè)計,操作搖桿轉(zhuǎn)動靈活。 5、為了保證在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進行多次熔煉,熔煉爐中采用了機械手翻轉(zhuǎn)機構(gòu)。 6、坩堝尺寸小且數(shù)量多,可以方便制作多個樣品,又可避免樣品間的相互污染。 7、操作簡單,**方便,設(shè)計小巧,占地面積極少。 |
||
技術(shù)參數(shù) |
電源 |
AC380V 50Hz(可自選) |
|
整機功率 |
7.5KW(可自選) |
||
真空腔 |
?200mm×300mm |
||
坩堝 |
7個,?25mm(可以根據(jù)客戶的要求定制特殊尺寸)
|
||
真空度 |
配用本司分子泵可到1E-5mbar,旋片泵可達1E-3mbar(也可自行配置擴散泵,以獲得較好的真空 |
||
非自耗式起弧電極 |
鎢針(W) |
||
適用范圍 |
可用于熔煉熔點低于鎢金屬的金屬材料 |
||
熔煉溫度 |
*高可達3000°C,幾乎可熔化所有金屬 |
||
*大熔煉量 |
70毫米單腔坩堝約100 g(鐵) |
||
產(chǎn)品規(guī)格 |
尺寸:470mm×315mm×880mm(不計電源);重量:50kg |
||
標準配件 |
1、主機1套 2、旋片機械泵及連接管路 1套 3、冷水機1臺 |
||
可選配件 |
1、高真空系統(tǒng) 2、防腐型數(shù)字式真空顯示計(測量范圍為3.8×10-5torr至1125 Torr) |