- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
通用真空腔體設(shè)計用于在低壓至高真空 - 5·10-7 mm 下進(jìn)行物理實驗。該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜。 此外，在安裝適當(dāng)?shù)脑O(shè)備時，真空柱還可用于進(jìn)行固體物理領(lǐng)域的研究。
抽氣和真空室升降過程有手動和自動兩種控制方式。 真空柱的壓力和狀態(tài)顯示在液晶顯示屏上。
真空室被制成帽的形式。 腔室材料為不銹鋼，箱體上焊接有矩形冷卻通道。 腔室法蘭有許多支管，用于連接各種輸入：旋轉(zhuǎn)、電氣、低溫。 真空柱配備有自動室提升機構(gòu)。
腔體的技術(shù)特性。
|
真空系統(tǒng) |
|
|
真空室內(nèi)徑 |
不小于250mm |
|
真空室高度 |
不小于400mm |
|
攝像頭類型 |
圓筒鐘型 |
|
腔體材質(zhì) |
不銹鋼，12X18H10T |
|
腔體內(nèi)表面加工 |
研磨、拋光 |
|
前級泵抽速 |
不小于5m3/h |
|
前級泵類型 |
干式螺旋泵 |
|
高真空泵類型 |
渦輪分子泵組 |
|
高真空泵抽速 |
不小于300l/s |
|
冷卻系統(tǒng) |
線圈，入口/出口配件：1/4' |
|
工作真空度 |
1x10-6毫米汞柱 |
|
極限真空 |
5х10-7毫米汞柱 |
|
達(dá)到工作真空的時間 |
不超過60分鐘 |
|
真空計類型 |
組合式寬范圍型 |
|
壓力測量范圍 |
760 mm Hg |
|
旁路泵送管線 |
有 |
|
高真空閥 |
氣動，常閉 |
|
連接法蘭 |
KF16 – 2個. KF25 – 6個. |
|
控制類型 |
手動/自動 |
|
真空系統(tǒng)控制方法 |
電動氣動 |
|
真空系統(tǒng)壓力和狀態(tài)指示 |
控制面板上的液晶顯示屏 |
|
外形尺寸 |
寬x深x高（1000x1200x1800(2400)mm |
|
重量 |
不超250KG |
|
電源電壓 |
220V |
|
電源相數(shù) |
1 |
|
進(jìn)氣壓力 |
4-8 Bar |
|
功耗 |
0.5KW |
